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焦作工业é“æ生äñ”厂家讲解é“åˆé‡‘表é¢ä¸Šå¦‚何生æˆä¼˜è´¨çš„硬质氧化膜å±?/h1>
å‘布旉™—´åQ?023-03-07æ¥æºåQ?a href='http://m.lvpdf.com/news/425.html'>http://m.lvpdf.com/news/425.html
   é“åˆé‡‘表é¢ä¸Šå¦‚何生æˆä¼˜è´¨çš„硬质氧化膜层的呢?焦作工业é“æ生äñ”厂家介ç»å¦‚下åQ?br />     焦作工业é“æ生äñ”厂家介ç»åˆ°é“å’Œé“åˆé‡‘表é¢ä¸Šèƒ½å¦ç”Ÿæˆä¼˜è´¨çš„¼‹¬è´¨æ°§åŒ–膜层åQŒä¸»è¦å–决于电解液的æˆä†¾‹¹“度åQŒæ¸©åº¦ï¼Œç”‰|µå¯†åº¦åQŒåŠå…¶åŽŸæ料的æˆåˆ†ã€?br />     1ã€ç”µè§£æ¶²çš„浓åº?br />     采用¼‹«é…¸ç”µè§£æ¶²è¿›è¡Œç¡¬è´¨é˜³æžæ°§åŒ–æ—¶åQŒä¸€èˆ¬åœ¨10åQ…~30åQ…浓度范围内åQŒæµ“度低æ—Óž¼Œæ°§åŒ–膜硬度高åQŒç‰¹åˆ«æ˜¯¾U¯é“比较明显åQŒä½†å¯šw“œå«é‡è¾ƒé«˜çš„é“åˆé‡‘åQˆCY12åQ‰ä¾‹å¤–。因为å«é“œé‡è¾ƒé«˜çš„é“åˆé‡‘易生æˆCuAl2的化åˆç‰©åQ?a href="http://m.lvpdf.com/gylxc/" target="_blank">工业é“åž‹æ?/a>˜q™ç§åŒ–åˆç‰©åœ¨æ°§åŒ–时溶解速度较快åQŒæžæ˜“烧æ¯é“零äšg。所以一般ä¸é€‚åˆç”¨ä½Ž‹¹“度的硫酸电解液åQŒå¿…™åÕdœ¨é«˜æµ“度(H2SO4åœ?300ï½?00g/LåQ‰ä¸­˜q›è¡Œæ°§åŒ–处ç†æˆ–采用交直æµç”µå åŠ æ³•å¤„ç†ã€?br />     2ã€æ¸©åº¦å¯¹å±‚膜的媄å“?br />     焦作工业é“æ生äñ”厂家告诉大家电解液温度对氧化膜的è€ç£¨æ€§åª„å“æžå¤§ï¼Œä¸€èˆ¬æ¥è¯ß_¼Œå¦‚果温度下é™åQŒé‚£ä¹ˆé“å’Œé“åˆé‡‘的阳æžæ°§åŒ–膜è€ç£¨æ€§èƒ½ž®±å¢žé«˜ï¼Œ˜q™æ˜¯ç”׃ºŽç”µè§£æ¶²å¯¹äºŽè†œçš„溶解速度下é™æ‰€é€ æˆçš„,ä¸ÞZº†èŽ·å¾—较高¼‹¬åº¦çš„氧化膜。我们è¦æŽŒæ¡æ¸©åº¦åœ¨Â?℃范围内˜q›è¡Œ¼‹¬è´¨é˜Ïxžæ°§åŒ–处ç†ä¸ºå¥½ã€?br />     3ã€ç”µ‹¹å¯†åº?br />     æ高甉|µå¯†åº¦åQŒæ°§åŒ–膜生长速率加快åQŒæ°§åŒ–时间羃短,膜层å—硫酸溶解时间凞®‘,膜层溶解é‡å‡ž®‘,膜层¼‹¬åº¦å’Œè€ç£¨æ€§æ高。但当电‹¹å¯†åº¦è¶…˜q‡æžé™ç”µ‹¹æ—¶åQŒç”±äºŽæ°§åŒ–æ—¶å‘热é‡å¤§å¢žï¼Œä½‰K˜³æžå·¥ä»¶ç•Œé¢æ¸©åº¦è¿‡é«˜ï¼Œè†œçš„溶解速率加快åQŒè†œçš„硬度å而é™ä½Žã€?br />     如电‹¹å¯†åº¦è¿‡ä½Žï¼Œç”µåŽ‹å‡é«˜˜q‡äºŽ¾~“æ…¢åQŒè™½ç„¶å‘热é‡å‡å°‘åQŒå·¥ä¸?a href="http://m.lvpdf.com/supply/140.html" target="_blank">é“åž‹æ?/a>但è¦èŽ·å¾—较厚的氧化膜åQŒæ°§åŒ–时间必然加长,å¯ÆD‡´è†œå±‚å—硫酸溶解的旉™—´å»‰™•¿åQŒæ‰€ä»¥æ°§åŒ–膜¼‹¬åº¦é™ä½Žã€‚关于电‹¹å¯†åº¦å’Œæ°§åŒ–膜硬度ã€è€ç£¨æ€§ã€æ°§åŒ–膜生长速率的关¾pÀL¯”较å¤æ‚,è¦æƒ³å¾—到ç†æƒ³çš„氧化膜层,è¦æ ¹æ®ä¸åŒçš„åˆé‡‘ææ–™æ¥é€‰æ‹©åˆé€‚的甉|µå¯†åº¦åQŒé€šå¸¸å?ï½?.5 A/dm?ã€?br />     4ã€åˆé‡‘æˆåˆ†çš„å½±å“
    é“åˆé‡‘æˆåˆ†å’Œæ‚质对硬质氧化膜的质é‡æœ‰è¾ƒå¤§å½±å“。主è¦è¡¨çŽ°åœ¨å¯¹è†œå±‚çš„å‡åŒ€æ€§å’Œå®Œæ•´æ€§çš„å½±å“。对于é“一铜ã€é“¼‹…ã€é“一锰åˆé‡‘,采用直æµç”늡¬è´¨é˜³æžæ°§åŒ–困难较大。当åˆé‡‘中铜å«é‡­‘…过5%ã€ç¡…å«é‡­‘…过7.5%æ—Óž¼Œä¸é€‚宜采用直浼‹¬è´¨é˜Ïxžæ°§åŒ–。工业é“åž‹æ如采用交直æµå åŠ æˆ–脉冲电‹¹æ³•˜q›è¡Œ¼‹¬è´¨é˜Ïxžæ°§åŒ–åQŒåˆé‡‘元素åŠæ‚è´¨å«é‡èŒƒå›´å¯ä»¥æ‰©å¤§ã€?br />     5ã€æ°§åŒ–膜层生镉K€ŸçŽ‡
    焦作工业é“æ生äñ”厂家介ç»åˆ°æ高电‹¹å¯†åº¦å’Œé™ä½Žç”µè§£æ¶²æ¸©åº¦æ—¶å·¥ä¸šé“åž‹æ,氧化膜层生长速率æ高。电解液‹¹“度低时åQŒå¯¹è†œå±‚的溶解é‡å‡å°‘åQŒå¯ä¿ƒä‹É氧化膜层的生é•Ñ€‚欲获得致密ã€è€èš€æ€§å¼ºçš„氧化膜层,必须é™ä½Žè†œçš„生长速率ã€?br />

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